特許

J-GLOBAL ID：200903044387015607

嫌気槽処理装置

発明者： 吉田 和正 ,  伊藤 義寿
出願人/特許権者： 日立プラント建設株式会社
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-040603
公開番号（公開出願番号）：特開2002-239588
出願日： 2001年02月16日
公開日（公表日）： 2002年08月27日
要約：

【要約】【課題】支柱を効率良く固定することのできる嫌気槽処理装置を提供する。【解決手段】本発明の嫌気槽10は、鉛直に配設された支柱30に、複数の皿状濾材32、32、...が支持されている。支柱30は、下端部30Aに下部受栓36を嵌め込み、この下部受栓36を下フレーム26の孔26Aに差し込んだ後、上フレーム28の孔28Aに上部受栓38を上方から差し込んで先端を支柱30の上端部30Bに嵌め込むことによって、固定される。

請求項（抜粋）：

嫌気槽内に鉛直に設置されて前記嫌気槽内の濾材を支持するとともに、上端部が前記嫌気槽内の上フレームに支持され、下端部が前記嫌気槽内の下フレームに支持される支柱を備えた嫌気槽処理装置において、前記支柱は、該支柱の下部に嵌め込まれて、前記下フレームに形成された孔に差し込まれる第1固定部材と、前記上フレームに形成された孔に上側から差し込まれて、前記支柱の上端部に嵌め込まれる第2固定部材と、によって前記上フレーム及び前記下フレームに固定されることを特徴とする嫌気槽処理装置

IPC (2件)：

C02F 3/28 ,  C02F 3/06

FI (2件)：

C02F 3/28 B ,  C02F 3/06

Fターム (9件)：

4D003AA01 ,  4D003BA01 ,  4D003EA03 ,  4D003EA09 ,  4D003EA30 ,  4D003EA36 ,  4D040AA04 ,  4D040AA34 ,  4D040AA60