特許
J-GLOBAL ID:200903044388786798

ポリウレタンゲル粒子および化粧料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 近藤 利英子 ,  吉田 勝広 ,  梶原 克哲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-027086
公開番号(公開出願番号):特開2008-189843
出願日: 2007年02月06日
公開日(公表日): 2008年08月21日
要約:
【課題】従来の問題を解決したポリウレタンゲル粒子および該粒子を含む化粧料を提供すること。【解決手段】少なくともいずれか一方が3官能以上である、ポリイソシアネートと、分子内に活性水素基を有する化合物と、分子内に活性水素基を有するポリシロキサンおよび/または該ポリシロキサンとラクトンとの共重合体とからなる三次元架橋したポリシロキサン変性ポリウレタンゲル粒子(粒子A)であって、該粒子Aの表面がポリウレアコロイド非水溶媒溶液から析出したポリウレアコロイド粒子(粒子B)によって被覆されていることを特徴とするポリシロキサン変性ポリウレタンゲル粒子(粒子C)、および該粒子Cを含むことを特徴とする化粧料。【選択図】なし
請求項(抜粋):
少なくともいずれか一方が3官能以上である、ポリイソシアネートと、分子内に活性水素基を有する化合物と、分子内に活性水素基を有するポリシロキサンおよび/または該ポリシロキサンとラクトンとの共重合体とからなる三次元架橋したポリシロキサン変性ポリウレタンゲル粒子(粒子A)であって、該粒子Aの表面がポリウレアコロイド非水溶媒溶液から析出したポリウレアコロイド粒子(粒子B)によって被覆されていることを特徴とするポリシロキサン変性ポリウレタンゲル粒子(粒子C)。
IPC (5件):
C08G 18/61 ,  C08J 3/12 ,  C08G 18/64 ,  A61K 8/87 ,  A61Q 1/00
FI (5件):
C08G18/61 ,  C08J3/12 Z ,  C08G18/64 ,  A61K8/87 ,  A61Q1/00
Fターム (73件):
4C083AA082 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB432 ,  4C083AC022 ,  4C083AC082 ,  4C083AC122 ,  4C083AC482 ,  4C083AD071 ,  4C083AD072 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD662 ,  4C083BB26 ,  4C083CC05 ,  4C083CC12 ,  4C083DD17 ,  4C083DD31 ,  4F070AA53 ,  4F070AC89 ,  4F070DA40 ,  4F070DB03 ,  4F070DC02 ,  4F070DC07 ,  4F070DC11 ,  4J034CA03 ,  4J034CA04 ,  4J034CA05 ,  4J034CA15 ,  4J034CB07 ,  4J034CC03 ,  4J034CC26 ,  4J034CC33 ,  4J034CC35 ,  4J034CC45 ,  4J034CC52 ,  4J034CC61 ,  4J034CC62 ,  4J034CC67 ,  4J034CD01 ,  4J034CD04 ,  4J034CD09 ,  4J034CD13 ,  4J034DA01 ,  4J034DA03 ,  4J034DB05 ,  4J034DF01 ,  4J034DF02 ,  4J034DF11 ,  4J034DF16 ,  4J034DF20 ,  4J034DG02 ,  4J034DM01 ,  4J034DM06 ,  4J034DM11 ,  4J034DP19 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HA08 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC13 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC61 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034QC04 ,  4J034RA02
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-034843   出願人:根上工業株式会社
  • 化粧料用アクリル共重合体微粒子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-331027   出願人:ガンツ化成株式会社
審査官引用 (3件)
  • 化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-034843   出願人:根上工業株式会社
  • 特開平2-138327
  • ポリウレタンゲル微粒子及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-263102   出願人:大日精化工業株式会社, 浮間合成株式会社

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