特許

J-GLOBAL ID：200903044390286832

製膜装置及びヘッドクリーニング方法及びデバイスの製造方法及びデバイス製造装置及びデバイス

発明者： 中村 真一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-073065
公開番号（公開出願番号）：特開2003-270424
出願日： 2002年03月15日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：

【要約】【課題】 全てのヘッドの各ノズル面を確実かつ均等に清掃する手段の提供を課題とする。【解決手段】 ワイピングユニット70が、ワイピングシート75とローラ76とを備え、ローラ76が、各ノズル面53a間のピッチ間隔に合わせて該ローラ76の軸線方向に複数分割された押し付け面76b1と、前記軸線を共通の軸線とする回転軸76aとを有し、各押し付け面76b1を、ワイピングシート75を介して各ノズル面53aに押し当てて清掃する構成/方法を採用した。

請求項（抜粋）：

液滴を吐出する複数のヘッドと、これらヘッドの各ノズル面を清掃するヘッド清掃機構とを備えた製膜装置において、前記ヘッド清掃機構は、前記各ノズル面を一括して拭うワイピングシートと、該ワイピングシートを前記各ノズル面に向けて押し付けるローラとを備え、前記ローラは、前記各ノズル面間のピッチ間隔に合わせて該ローラの軸線方向に複数分割された押し付け面と、前記軸線を共通の軸線とする回転軸とを有することを特徴とする製膜装置。

IPC (2件)：

G02B 5/20 101 ,  B41J 2/165

FI (2件)：

G02B 5/20 101 ,  B41J 3/04 102 H

Fターム (7件)：

2C056EA16 ,  2C056FB01 ,  2C056JB02 ,  2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42