特許
J-GLOBAL ID：200903044392945434
位相シフトマスクとその製造方法、ならびにマスクブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-072884
公開番号（公開出願番号）：特開平8-272071
出願日： 1995年03月30日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】従来以上の位相シフト効果が得られ、しかも位相シフト露光の条件に係る多大な制約を解消できる位相シフトマスクと、高生産性でしかも容易に製造可能とする製造方法と、そして製造に便利なマスクブランクとを提供する。【構成】透明基板1上に半透明性パターン2′と遮光性パターン3′、あるいは透明基板1上に遮光性パターン3′と半透明性パターン2′とがこれらの順に設けてあり、しかも遮光性パターン3′が少なくとも該半透明性パターン2′のエッジ部を遮蔽しない大きさである位相シフトマスク、また遮光性パターン3′の材料は半透明性パターン2′材料と同一のエッチング種によりエッチング可能であり且つエッチング速度が半透明性パターン2′の場合よりも早い。
請求項（抜粋）：
(イ)透明基板上に半透明性パターンと遮光性パターン、あるいは透明基板上に遮光性パターンと半透明性パターンとがこれらの順に設けてあること、(ロ)該遮光性パターンが少なくとも該半透明性パターンのエッジ部を遮光しない大きさであること、以上、(イ)及び(ロ)を具備することを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 B
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
