特許
J-GLOBAL ID:200903044403721908

排ガス浄化用触媒及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  栗原 彰 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-332196
公開番号(公開出願番号):特開2006-142137
出願日: 2004年11月16日
公開日(公表日): 2006年06月08日
要約:
【課題】貴金属粒子のシンタリングを抑制し、高温酸化環境下においても高い触媒活性を維持できる排ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供する。【解決手段】アルミナ及びセリアを含む化合物から形成される基材2と、基材2の表面に担持され、白金、パラジウム及びロジウムの中から選択される少なくとも一種以上の貴金属元素から形成される貴金属粒子3と、貴金属粒子3の表面又は貴金属粒子3の表面の一部に被覆され、金属酸化物から形成される金属酸化物層4と、を有することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
アルミナ及びセリアを含む化合物から形成される基材と、 前記基材の表面に担持され、白金、パラジウム及びロジウムの中から選択される少なくとも一種以上の貴金属元素から形成される貴金属粒子と、 前記貴金属粒子の表面又は前記貴金属粒子の表面の一部に被覆され、金属酸化物から形成される金属酸化物層と、を有することを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (4件):
B01J 23/89 ,  B01J 37/02 ,  F01N 3/10 ,  B01D 53/94
FI (4件):
B01J23/89 A ,  B01J37/02 301L ,  F01N3/10 A ,  B01D53/36 103B
Fターム (75件):
3G091AA02 ,  3G091AB02 ,  3G091BA01 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091BA39 ,  3G091GB04X ,  3G091GB05W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB10W ,  3G091GB17X ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA14 ,  4D048BA03X ,  4D048BA08Y ,  4D048BA19X ,  4D048BA21Y ,  4D048BA28Y ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA36Y ,  4D048BA37X ,  4D048BA38Y ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC22A ,  4G069BC31A ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC51A ,  4G069BC62A ,  4G069BC66A ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BC68A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069CA03 ,  4G069CA09 ,  4G069FB17 ,  4G069FB19 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC22A ,  4G169BC31A ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC51A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CA03 ,  4G169CA09 ,  4G169FB17 ,  4G169FB19
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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