特許

J-GLOBAL ID：200903044418950512

エキシマレーザー用光学石英ガラス部材及びその製造方法

発明者： 藤ノ木 朗 ,  佐藤 龍弘 ,  松谷 利勝 ,  西村 裕幸 ,  森 利樹
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 武田 正彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-362110
公開番号（公開出願番号）：特開平6-199539
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月19日
要約：

【要約】【目的】 高エネルギー密度のエキシマレーザー光の照射に対して、透過率及び屈折率等の光学特性が安定で、かつ簡単な熱処理によりそれらの光学特性が完全に回復可能の石英ガラス光学部材を提供する。【構成】 水酸基濃度が300ppm以下、塩素濃度が50ppm以下及び水素濃度が5×1016分子/cm3以下であり、波長245nmの紫外線に対する透過率が99.5%以上の石英ガラスであり、該石英ガラスは、大気又は窒素ガス雰囲気中で、500°Cの温度で10時間にわたって熱処理されたときの水酸基濃度の変動量が20ppm以下であり、かつ、20mJ/cm2以上の高エネルギーエキシマレーザーの照射によりもたらされるダメージが、500°C以上の温度による熱処理によって解消可能の、合成シリカスート体を透明ガラス化することにより製造されたもので、照射パルス当りのエネルギー密度が20mJ/cm2以上の高エネルギーエキシマレーザー用である。

請求項（抜粋）：

合成シリカスート体を透明ガラス化して製造した、照射パルス当りのエネルギー密度が20mJ/cm2以上の高エネルギーエキシマレーザー用の光学石英ガラス部材において、石英ガラスは、水酸基濃度が300ppm以下、塩素濃度が50ppm以下及び水素濃度が5×1016分子/cm3以下であり、波長245nmの紫外線に対する透過率が99.5%以上であり、大気又は窒素ガス雰囲気中で、500°Cの温度で10時間にわたって熱処理されたときの水酸基濃度の変動量が20ppm以下であり、かつ、20mJ/cm2以上の高エネルギーエキシマレーザーの照射によりもたらされるダメージが、500°C以上の温度による熱処理によって解消可能であることを特徴とする高エネルギーエキシマレーザー光学用石英ガラス部材。

IPC (4件)：

C03C 3/06 ,  C03B 20/00 ,  C03B 32/00 ,  G02B 1/00