特許

J-GLOBAL ID：200903044437821588

欠陥修正装置

発明者： 小林 智茂
出願人/特許権者： エヌティエヌ株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-182771
公開番号（公開出願番号）：特開2002-006510
出願日： 2000年06月19日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】【課題】 被加工物に適した波長と出力レベルを有するレーザ光を選択し、多層にわたった金属膜,高分子化合物と金属膜の積層膜を一度に加工できるような欠陥修正装置を提供する。【解決手段】 レーザ光源11から複数の波長のレーザ光を出力し、分岐部12で各波長ごとのレーザ光に分離し、パワーコントロールユニット13でそれぞれの波長のレーザ光の出力を調整し、合成部14で集光した後スリット板15と対物レンズ17を介して集光したレーザ光を被加工物18に照射する。

請求項（抜粋）：

被加工物の加工上の欠陥を修正する欠陥修正装置であって、それぞれが異なる複数の波長のレーザ光を発振して同軸上に出力するレーザ発振手段と、前記レーザ発振手段から発振されるレーザ光と同軸上に前記複数またはそれ以下の数だけ所定の間隔を隔てて配列され、前記複数波長のレーザ光のうち所望のレーザ光を反射または透過させる光学素子を含む分岐手段と、前記分岐手段の各光学素子によって反射されたレーザ光の光路上に設けられ、該反射されたレーザ光の出力を制御する出力制御手段と、前記分岐手段の光学素子と同数設けられ、それぞれが所定の間隔を有して配列され、前記出力制御手段によって出力の制御された各レーザ光を反射または透過させることによって集光する光学素子を含む集光手段と、前記被加工物の加工形状に対応したスリットを有し、前記集光手段によって集光されたレーザ光が透過するスリット部と、前記スリット部を透過したレーザ光を前記被加工物上に導く光学系を備えた、欠陥修正装置。

IPC (7件)：

G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02F 1/13 101 ,  G09F 9/00 352 ,  B23K101:40

FI (8件)：

G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  B23K 26/00 C ,  B23K 26/00 N ,  B23K 26/06 C ,  G02F 1/13 101 ,  G09F 9/00 352 ,  B23K101:40

Fターム (27件)：

2H088FA15 ,  2H088FA16 ,  2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA13 ,  2H088KA04 ,  2H088MA16 ,  2H097AA13 ,  2H097BB02 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097EA03 ,  2H097LA12 ,  4E068CA01 ,  4E068CA02 ,  4E068CA04 ,  4E068CD03 ,  4E068CD08 ,  4E068DA10 ,  5G435AA17 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435EE33 ,  5G435HH12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK09 ,  5G435KK10