特許
J-GLOBAL ID：200903044439170835
カーボンナノ構造体の製造方法及び製造装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
松下 亮
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-244057
公開番号（公開出願番号）：特開2008-063196
出願日： 2006年09月08日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：
【課題】カーボンナノ構造体を生成する基材を連続的に供給可能とすることで量産が容易なカーボンナノ構造体の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】製造装置100は、主要構成としてカーボンナノ構造体を生成するプラズマ処理室101と、基材104をプラズマ処理室101内に送出する基材供給部102と、カーボンナノ構造体が生成された基材104を回収する基材回収部103とから構成されている。基材104は帯状の形状を有しており、基材供給部102からプラズマ処理室101を経由して基材回収部103まで連続して移送される。製造装置100では、カーボンナノ構造体としてカーボンナノウォールが生成される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラズマ処理室内の成膜位置に配置された基材の表面にカーボンナノ構造体を生成するためのカーボンナノ構造体の製造方法であって、
帯状の前記基材を前記プラズマ処理室に連続的に供給し、
前記基材を所定温度まで局所的に加熱し、
第1の原料ガスのプラズマと第2の原料ガスのラジカルとを前記成膜位置の上部に供給して混合領域を形成し、
前記成膜位置に移送された前記基材と前記混合領域との相対距離を制御して前記基材の表面に前記カーボンナノ構造体を高速に生成し、
前記カーボンナノ構造体が生成された前記基材を連続的に回収する、
ことにより前記基材上に前記カーボンナノ構造体の成膜を連続的に形成する
ことを特徴とするカーボンナノ構造体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (21件)：
4G146AA07
, 4G146AA11
, 4G146AD23
, 4G146AD25
, 4G146BA11
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BC01
, 4G146BC09
, 4G146BC16
, 4G146BC19
, 4G146BC25
, 4G146BC31A
, 4G146BC31B
, 4G146BC42
, 4G146BC44
, 4G146DA03
, 4G146DA16
, 4G146DA23
, 4G146DA27
, 4G146DA43
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
