特許

J-GLOBAL ID：200903044443906986

ドライエッチング方法及びドライエッチング装置

発明者： 門村 新吾
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-343272
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168918
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 下地への影響や堆積物の剥離性に問題を生ずることなく、オーバーエッチング時に発生するおそれのある被パターニング部底部のえぐれであるノッチングを防止する技術を提供する。【構成】 オーバーエッチング工程III を有するドライエッチング方法において、冷却に超音波付与を併用するなどして有機系レジストにクラックを生じせしめII、この状態でエッチングを行うなど、オーバーエッチング時に、少なくとも被エッチング材の下部側壁に有機系の保護膜を与える条件でエッチングを行うドライエッチング方法。

請求項（抜粋）：

オーバーエッチング工程を有するドライエッチング方法において、オーバーエッチング時に、少なくとも被エッチング材の下部側壁に有機系の保護膜を与える条件でエッチングを行うことを特徴とするドライエッチング方法。