特許

J-GLOBAL ID：200903044454604159

X線発生装置及びX線照射方法

発明者： 岩松 誠一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-170339
公開番号（公開出願番号）：特開平7-021950
出願日： 1981年02月05日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 ターゲットの蒸発粒子が被照射物に被着することを防止し、更にX線の多重照射時においてもX線の減少の無い安定したX線を照射する。【構成】 真空雰囲気内に設けられたターゲット11に量子線12を照射しX線14を発生させるX線源部とターゲットの蒸発物質15を捕獲する捕獲膜18及び真空雰囲気と外部雰囲気とを隔絶しかつX線を透過するための照射窓を有する。

請求項（抜粋）：

真空雰囲気中でX線を発生させるX線発生装置において、レーザー光線、イオン線、電子線等の量子線をターゲットに照射することにより、X線が発生されるX線源部、前記X線源部とそのX線源部から発生するX線が照射される大気雰囲気中に設けられた被照射物との間に存在し、前記X線源部から発生するX線とともに放出される前記ターゲットの蒸発物質を捕獲するBe膜、合成樹脂膜、雲母膜、Si膜等X線透過能の大なる捕獲膜、前記捕獲膜と前記被照射物との間に存在し、かつ前記真空雰囲気と前記大気雰囲気を隔絶するX線透過能の大なる照射窓を有することを特徴とするX線発生装置。

IPC (2件)：

H01J 35/00 ,  H01J 35/22

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭53-042694
  
• 特開昭54-009594
  
• 特開昭53-067673