特許

J-GLOBAL ID：200903044461240154

パルス波形バイアス電力

発明者： アーサー エイチ. サトウ ,  ヴァレンティン エヌ. トドロフ ,  シュー-ユー チャン ,  ジェラルド ズィー. イン
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-253481
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129621
出願日： 1996年09月25日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ処理の間に、プラズマチャンバ内で基板を支持するペデスタルにバイアスを与える方法。【解決手段】 その大きさが少なくともVB (ここで、VB はある正電圧)の第1の電圧で、前記ペデスタルにバイアスをかけるステップと、定期的ないし間欠的に所定の周波数で、ペデスタルに対して、第1の電圧と逆の極性で、その振幅がVB より大きいパルスを加えるステップとを有する、プラズマ処理中にプラズマチャンバ内において基板を支持するペデスタルにバイアスを与える方法。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理の間に、プラズマチャンバ内で基板を支持するペデスタルにバイアスを与える方法であって、前記ペデスタルに、任意の正の電圧VB と少なくとも等しい第1の電圧でバイアスを与えるステップと、前記ペデスタルに、定期的ないし間欠的に所定の周波数で、前記第1の電圧の極性と逆の極性を有し前記VB よりも大きな振幅を有するパルスを与えるステップと、を有する方法。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203

FI (3件)：

H01L 21/302 C ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/203 S