特許
J-GLOBAL ID：200903044473244996

光触媒を用いた水処理装置

発明者：
宮田 輝史

宮田 輝史 について

, 
武田 豊

武田 豊 について

, 
加藤 泰良

加藤 泰良 について


出願人/特許権者：
バブコック日立株式会社

バブコック日立株式会社 について


代理人 (1件)： 川北 武長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062668
公開番号（公開出願番号）：特開2000-254667
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 高効率で廃水中の有害成分を分解できる光触媒を用いた水処理装置を提供することにある。【解決手段】 内管とその外側に同心状に形成された外管とからなり、それらの間に被処理液の流路が形成される二重管と、該内管の中心部に設けられた光源と、前記外管の内壁に配設された光触媒と、前記被処理液の通路の一端および他端にそれぞれ被処理液の供給口および排出口を有する反応器であって、被処理液の供給口付近における該被処理液の通過断面を、前記光源と光触媒の間を流れる被処理液の通過断面よりも大きくしたことを特徴とする光触媒を用いた水処理装置。
請求項（抜粋）：
内管とその外側に同心状に形成された外管とからなり、それらの間に被処理液の流路が形成される二重管と、該内管の中心部に設けられた光源と、前記外管の内壁に配設された光触媒と、前記被処理液の通路の一端および他端にそれぞれ被処理液の供給口および排出口を有する反応器であって、被処理液の供給口付近における該被処理液の通過断面を、前記光源と光触媒の間を流れる被処理液の通過断面よりも大きくしたことを特徴とする光触媒を用いた水処理装置。
IPC (4件)：
C02F 1/72 101 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32
FI (4件)：
C02F 1/72 101 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32
Fターム (27件)：
4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050AB19 ,  4D050BC04 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BC35A ,  4G069BC36A ,  4G069BC50A ,  4G069BD09A ,  4G069CA05 ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA15 ,  4G069CA19
引用特許：
審査官引用 (5件)
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