特許

J-GLOBAL ID：200903044473827673

高負荷活性汚泥装置

発明者： 佐藤 三生男
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 川合 誠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-215598
公開番号（公開出願番号）：特開平7-060271
出願日： 1993年08月31日
公開日（公表日）： 1995年03月07日
要約：

【要約】【目的】処理水に活性汚泥が混入することがなく、しかも、フォームデストロイヤを配設する必要がない高負荷活性汚泥装置を提供する。【構成】タンク33内に多数の多孔ディスク34を配設するとともに、該多孔ディスク34を繰り返し昇降させる駆動装置37を備え、タンク33内の原水、活性汚泥及び空気を攪拌(かくはん)して原水を処理するレシプロジェットリアクタ31と、該レシプロジェットリアクタ31から、処理水と活性汚泥の混合液を気泡と共に排出するライン44と、該ライン44に接続され、処理水を活性汚泥及び気泡から分離する遠心分離機48とを有する。したがって、レシプロジェットリアクタ31から排出された混合液に存在する気泡が活性汚泥を処理水に混入させることがないので、フォームデストロイヤを配設する必要がなく、コストを低くすることができる。

請求項（抜粋）：

(a)タンク内に多数の多孔ディスクを配設するとともに、該多孔ディスクを繰り返し昇降させる駆動装置を備え、タンク内の原水、活性汚泥及び空気を攪拌して原水を処理するレシプロジェットリアクタと、(b)該レシプロジェットリアクタから、処理水と活性汚泥の混合液を気泡と共に排出するラインと、(c)該ラインに接続され、処理水を活性汚泥及び気泡から分離する遠心分離機とを有することを特徴とする高負荷活性汚泥装置。

IPC (5件)：

C02F 3/06 ZAB ,  C02F 3/12 ZAB ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502