特許
J-GLOBAL ID：200903044511356116
チオエーテル構造もしくはジスルフィド構造をもつフェノール誘導体、その製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-119198
公開番号（公開出願番号）：特開2002-316976
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】半導体パッケージ等の電気・電子部品に使用される接着剤に添加される新規フェノール誘導体であり特に銅、銀、金などの金属で被覆された表面層に優れた接着性を示す接着剤を提供する。【解決手段】一般式11のフェノール化合物と、HS-R2-SHのジチオールとを、加熱・反応させてフェノリックモノチオールを得、これをエタノール溶媒中、過酸化水素を用いて酸化反応させ、一般式21のフェノリックジスルフィドとする。〔式中、R1は炭素数が2又は3のメチレン鎖、R2は炭素数が1〜10のメチレン鎖、Gは水素原子又は置換基を示す。〕
請求項（抜粋）：
式(21)で表されるフェノール誘導体。【化1】〔式中、R1は炭素数が2又は3のメチレン鎖、R2は炭素数が1〜10のメチレン鎖、Gは水素原子又は置換基を示す。〕
IPC (6件)：
C07C323/16
, C07C319/14
, C07C319/18
, C09J 11/06
, C09J125/18
, C09J201/00
C07C323/16
, C07C319/14
, C07C319/18
, C09J 11/06
, C09J125/18
, C09J201/00
4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB99
, 4H006AC63
, 4H006BB14
, 4H006BB16
, 4H006BE32
, 4H006TA04
, 4H006TB39
, 4H006TB72
, 4J040HD05
, 4J040KA09
, 4J040LA06
, 4J040MA02
