特許

J-GLOBAL ID：200903044516361088

耐食性静電チャック

発明者： シャモウイル シャモウイリアン ,  ヨシ タナセ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-014327
公開番号（公開出願番号）：特開平8-046020
出願日： 1995年01月31日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 腐食性ガスによる腐食を抑制できる絶縁層を備える耐食性静電チャックを提供すること。【構成】 腐食性ガスによる処理中にシリコンウェハ18を保持するための耐食性静電チャック10は、ガード14により腐食から保護された電気的な絶縁層12を備えている。絶縁層12は、ウェハ18により覆われる上面20と、露出側面16を有する。ガード14は絶縁層12の露出側面16をほぼ囲い、これを腐食性ガスから保護する。ガード14は、腐食性ガスに露出された場合に絶縁層12が腐食するのと少なくとも同じ速さで腐食する犠牲材料から作られている。露出側面16の近傍の犠牲材料が腐食すると、露出側面16での腐食性ガスの濃度が減じられ、絶縁層12の腐食速度が減じられる。

請求項（抜粋）：

腐食性ガスを用いて処理を行っている間、基板を保持するための装置において、(a)上面(top surface )及び露出側面(exposed side surface)を有する電気的な絶縁層が設けられた静電チャックと、(b)前記腐食性ガスに対して前記絶縁層を保護するよう前記絶縁層の前記露出側面を実質的に囲み、且つ、前記腐食性ガスにさらされた場合に前記絶縁層が腐食するのと少なくとも同じ速さで腐食する犠牲材料(sacrificial material)から作られたガードと、を備える基板保持装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/3065 ,  B23Q 3/15

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-200625
  
• 特開平1-241839
  
• 特開平1-200625
  
• 特開平1-241839