特許
J-GLOBAL ID：200903044518606037
乾燥装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯田 堅太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-099880
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299818
出願日： 1992年04月20日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 高熱乾燥に弱いプリント基板、搭載素子等の電子部品を変形、破損が生じることなく乾燥させ、また、乾燥装置の稼動コストの低減、装置の小型化を図ること。【構成】 低温乾燥雰囲気発生手段100はファン6の回転により、低温の外気(例えば温度20°C,湿度40%の空気)をエアフィルタ5を介して乾燥炉1内部に吸い込み、ヒートポンプ7の凝縮器7a及びヒータ8により加熱して低温乾燥空気(例えば温度60°C,湿度5%の空気)を生成し乾燥室4へ送り込み、乾燥室4を常時低温乾燥空気が流れている状態に保つ。一方、この乾燥室4にコンベア10で搬入されてきた被乾燥物9に対し、エアブローノズル11は低温乾燥圧縮空気を吹き付ける。
請求項（抜粋）：
乾燥炉内を通過する被乾燥物の雰囲気を低温乾燥空気が流れている状態にする低温乾燥雰囲気発生手段と、前記被乾燥物に対して低温乾燥圧縮空気を吹き付けるエアブローノズルと、を備えることを特徴とする乾燥装置。
IPC (5件)：
H05K 3/22
, F25B 27/02
, F26B 15/00
, F26B 21/00
, H01L 21/304 361
