特許
J-GLOBAL ID：200903044532110028
金属薄帯の製造装置および製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-234957
公開番号（公開出願番号）：特開2002-045952
出願日： 2000年08月02日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：
【要約】【課題】 金属の溶湯をタンディッシのノズルから冷却ロール面に供給し急冷して金属薄帯を製造するに際し、ノズルからの溶湯の供給速度を一定に維持することの可能な金属薄帯の製造装置、および、厚さと幅の均一な金属薄帯の製造方法を提供すること。【解決手段】 金属薄帯の製造装置の溶解鋳造室1を隔壁2によってタンディッシュ31を備えた溶解室3と、冷却ロール41を設けた冷却固化室41とに画成し、タンディッシュ31のノズル32によって連通させる。 タンディッシュ31内の金属の溶湯30のヘッドをPh、溶解室3の圧力をPm、冷却固化室41の圧力を一定のPcとして、Ph+Pm=Pk(所定値)、Ph+Pm>Pcの2式を成立させる条件下に、ノズル32から冷却ロール41へ溶湯30を供給し急冷して軟磁性合金の薄帯を形成させる。
請求項（抜粋）：
真空または不活性ガスの雰囲気下に金属の溶湯をタンディッシュのノズルから高速回転する単一の冷却ロールの表面へ供給し急冷して金属薄帯を形成させる金属薄帯の製造装置において、金属を溶解し鋳造する溶解鋳造室が、隔壁によって画成され前記ノズルによって連通された、前記タンディッシュを含む金属の溶解室と、前記冷却ロールを含む溶湯の冷却固化室とからなり、前記タンディッシュ内の溶湯のヘッドをPh、前記溶解室の圧力すなわち前記タンディッシュ内の溶湯へ印加される圧力をPm、前記冷却固化室の圧力を一定のPcとして、 Ph + Pm = Pk(所定値) (式1) Ph + Pm > Pc (式2)の2式が成立するように、前記タンディッシュ内の溶湯のヘッドPhの変化に応じて前記溶解室の圧力Pmを制御する手段が設けられていることを特徴とする金属薄帯の製造装置。
IPC (2件)：
B22D 11/06 360
, H01F 41/02
B22D 11/06 360 B
, H01F 41/02 C
, H01F 41/02 G
4E004DB02
, 4E004TA01
, 4E004TA02
, 4E004TA03
, 4E004TB03
, 4E004TB04
, 4E004TB07
, 5E062AA02
, 5E062AB20
, 5E062AC20
, 5E062CC04
, 5E062CD06
, 5E062CE01
, 5E062CE05
