特許

J-GLOBAL ID：200903044533674138

投影露光装置及び位置検出方法

発明者： 石井 勇樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-244146
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077300
出願日： 1998年08月28日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】露光条件が変わっても、計測時にマスク変更することなく、迅速かつ正確に投影像の像位置を検出可能な投影露光装置及び位置検出方法を提供する。【解決手段】光源2からの照明光ILによってレチクルパターンRPが投影光学系1を介してセンサパターンSP上に投影された投影像の光量を、照明条件毎の焦点位置を計測する。各照明条件毎に計測された焦点位置と基準照明条件で計測された焦点位置との差を、各照明条件に対応するオフセット値として主制御系100に記憶する。次に、露光用照明光とは異なる計測用照明光を用いたFC計測による焦点位置の計測値に、実露光時における照明条件に対応した前記オフセット値を加えることにより、前記FC計測による焦点位置の計測値を補正する。

請求項（抜粋）：

マスクに露光用照明光を照射する照明光学系と、前記露光用照明光を基板上に投射する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系の瞳面での光強度分布が前記露光用照明光の光強度分布と異なる計測用照明光によって形成される投影像の位置情報を検出する第1検出系と、前記投影光学系の瞳面での前記露光用照明光と前記計測用照明光との光強度分布の差異に応じて、前記検出された位置情報を補正する補正装置とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 7/28 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 526 B ,  G03F 7/20 521 ,  G02B 7/11 M

Fターム (28件)：

2H051AA10 ,  2H051BA47 ,  2H051BA48 ,  2H051BA70 ,  2H051BA72 ,  2H051CB05 ,  2H051DB01 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC10 ,  5F046DA01 ,  5F046DA14 ,  5F046DB01 ,  5F046DC12 ,  5F046EA02 ,  5F046EA03 ,  5F046EA04 ,  5F046EB02 ,  5F046EB03 ,  5F046EC05 ,  5F046ED03 ,  5F046FA16