特許
J-GLOBAL ID：200903044552830280
レーザを使用した成形装置の洗浄方法および洗浄システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-521177
公開番号（公開出願番号）：特表平8-507734
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：
【要約】プレス機内の型の洗浄のためのシステムが開示されている。このシステムは、型(16)の表面を洗浄するためのレーザ(12)を含む光源(10)を利用するものである。光源(10)は、型(16)の開口に対して配列され、前記レーザ(12)から光が型表面上の残留物質を蒸発させるために型表面(40,42)上に照射され、それによって表面(40,42)が洗浄される。光源(10)は異なるプレス機間を移動できる持ち運び可能なユニットとして構成され、あるいは、単一のレーザ(110)と該レーザ(110)からの光を個々のプレス機(120A〜D)に導く複数の光路(118)とからなるものとしてもよい。それによって光は光路(118)に沿って選択的に伝送され、プレス機(120A〜D)内の型が洗浄されることになる。
請求項（抜粋）：
成形作業に関連した装置の洗浄方法であって、 レーザを含む光源を前記装置に対して配列する工程と、 前記光源からの光を前記装置の表面に照射させ、それによって前記表面から残留物質を洗浄するために前記レーザを起動させる工程とを具備することを特徴とする洗浄方法。
IPC (4件)：
B29C 33/72
, B30B 15/00
, B08B 7/00
, B23K 26/00
