特許

J-GLOBAL ID：200903044558663297

画像形成方法

発明者： 佐藤 守正
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-207734
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053706
出願日： 2002年07月17日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】ブラックマトリックスとスペーサーの簡便な製造方法の提供。【課題を解決するための手段】予め画素が形成された透明基板上に、第1の黒色ネガ型感光性樹脂層を設ける工程と、前記第1層上に、さらに第2のネガ型感光性樹脂層を設ける工程と、前記第1層及び第2層が設けられた基体に、該基体の背面側から露光する工程と、前記基体の感光性層側から所定のフォトマスクを介して露光する工程と、前記露光後の第1及び第2のネガ型感光性樹脂層を現像する工程とを有することを特徴とする画像形成方法である。【選択図】 無し。

請求項（抜粋）：

予め画素が形成された透明基板上に、 第1の黒色ネガ型感光性樹脂層を設ける工程Aと、 前記第1の黒色ネガ型感光性樹脂層の層上に、さらに第2のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Bと、 前記第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、該基体の背面側から露光する工程Cと、 前記基体の感光性層側から所定のフォトマスクを介して露光する工程Dと、 前記露光後の第1及び第2のネガ型感光性樹脂層を現像する工程Eと、 を有することを特徴とする画像形成方法。

IPC (5件)：

G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1339 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11

FI (5件)：

G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 500 ,  G02F1/1339 500 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/11 502

Fターム (29件)：

2H025AA18 ,  2H025AB11 ,  2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CC11 ,  2H025DA11 ,  2H025DA40 ,  2H025EA08 ,  2H048BA11 ,  2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB08 ,  2H089LA11 ,  2H089MA04X ,  2H089QA12 ,  2H089QA14 ,  2H089TA13 ,  2H091FA34Y ,  2H091FB04 ,  2H091FB12 ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091GA08 ,  2H091LA12 ,  2H091LA13