特許

J-GLOBAL ID：200903044570336250

耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法

発明者： 藤ノ木 朗 ,  松谷 利勝 ,  西村 裕幸
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-343510
公開番号（公開出願番号）：特開平6-166528
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 ガラス微粒子を直接回転する耐熱性棒状芯部材上に溶融堆積してなる透明なガラスに水素を含有させた耐紫外線レーザ用石英ガラスにおいて、レーザー照射時の前記常磁欠陥生成のバラツキを抑制し、より安定してレーザー耐性の優れた耐紫外線レーザ用光学部材を提供する。【構成】 揮発性珪素化合物を火炎加水分解し、生成するシリカ微粒子をそのまま回転する基体上に堆積、溶解して得られる合成石英を出発母材として耐紫外線レーザー用光学部材を製造する方法において、前記出発母材を600°C以上1500°C以下の温度領域で酸化熱処理し、水素濃度を5×1016分子/cm3 以下に低減させる第1の工程と、該石英ガラスを水素含有雰囲気下で300°C以上600°C以下の温度領域に保持して水素濃度を1×1017分子/cm3 以上含有せしめる第2の工程を含む事を特徴とする。

請求項（抜粋）：

揮発性珪素化合物を火炎加水分解し、生成するシリカ微粒子をそのまま回転する基体上に溶融・堆積して得られる合成石英を出発母材として耐紫外線レーザー用光学部材を製造する方法において、前記出発母材を600°C以上1500°C以下の温度領域で酸化熱処理し、水素濃度を5×1016分子/cm3 以下に低減させる第1の工程と、第1の工程で得られる石英ガラスを水素含有雰囲気下で300°C以上600°C以下の温度領域に保持して水素濃度を1×1017分子/cm3 以上含有せしめる第2の工程を含む事を特徴とする耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法。

IPC (3件)：

C03B 20/00 ,  C03B 8/04 ,  H01S 3/18