特許

J-GLOBAL ID：200903044572732412

二次元磁界分布の計測方法

発明者： 中村 宣夫 ,  浅原 陽介 ,  石原 道章 ,  春名 和幸
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社 ,  住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 篠原 泰司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-033421
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242196
出願日： 1993年02月23日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：

【要約】【目的】 被測定対象物からの磁界強度の変調が小さいときでもS/N 良く二次元磁界分布を計測する方法を提供することを目的とする。【構成】 被測定対象物3に対向した面に反射膜5を施した磁性ガーネット膜(RIG 膜) 4へ直線偏光の光を入射させ、該反射膜5で反射され該磁性ガーネット膜4から出射してきた光を偏光子6を通して強度変調させ二次元の磁界分布を光検出器7にて計測する方法において、該偏光子6が該磁性ガーネット膜へ入射する光の偏光面に対して65°〜75°の配置にあることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被測定対象物に対向した面に反射膜を施した磁性ガーネット膜へ直線偏光の光を入射させ、該反射膜で反射され該磁性ガーネット膜から出射してきた光を偏光子を通して強度変調させ二次元の磁界分布を計測する方法において、該偏光子が該磁性ガーネット膜へ入射する光の偏光面に対して65°〜75°の配置にあることを特徴とする二次元磁界分布の計測方法。

IPC (4件)：

G01R 33/032 ,  G01N 27/83 ,  G01R 33/10 ,  G01R 33/12