ノボラック型フェノール樹脂

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158798
公開番号（公開出願番号）：特開2000-344847
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：

【要約】【課題】リソグラフイー用レジスト等に於いて良好なパターン形状、耐熱性、解像度、感度を与えるノボラック型フェノール樹脂を提供すること。【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物(A)(4,4′-メチレンビス(2-ヒドロキシメチルー3,6-ジメチルフェノール等)と、ビニル基とフェノール性水酸基とを有するビニルフェノール類(パラヒドロキシスチレン等)の重合体であるポリビニルフェノール類の少なくとも2成分を反応させたノボラック型フェノール樹脂であって、化合物(A)をポリビニルフェノール類中のビニルフェノール類単位100モルに対して1〜40モルの割合として、化合物(A)とポリビニルフェノール類の少なくとも2成分を酸の存在下で反応させた、重量平均分子量が2000〜20000のノボラック型フェノール樹脂である。【化1】

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される化合物(A)と、ビニル基とフェノール性水酸基とを有するビニルフェノール類又は該ビニルフェノール類の重合体であるポリビニルフェノール類の少なくとも2成分を反応させたノボラック型フェノール樹脂であって、化合物(A)をビニルフェノール類100モルに対して又はポリビニルフェノール類中のビニルフェノール類単位100モルに対して1〜40モルの割合として、化合物(A)とビニルフェノール類又はポリビニルフェノール類の少なくとも2成分を酸の存在下で反応させた、重量平均分子量が2000〜20000であるノボラック型フェノール樹脂。【化1】

IPC (2件)：

C08G 8/24 , G03F 7/032

FI (2件)：

C08G 8/24 , G03F 7/032

Fターム (24件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AA10 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025BJ04 , 2H025BJ10 , 2H025CC03 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J033CA20 , 4J033CA29 , 4J033CA42 , 4J033CB01 , 4J033CC03 , 4J033HA02 , 4J033HA12 , 4J033HB10

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