特許

J-GLOBAL ID：200903044579818053

微多孔膜及びその製造方法

発明者： 名古屋 藤治 ,  松田 成信
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 猛 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-291251
公開番号（公開出願番号）：特開平9-169867
出願日： 1996年10月15日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】 固液相分離法によって調製された微多孔膜と比較して孔径が大きく、かつ均質な構造をもち、力学的強度も高い微多孔膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 エチレン系ポリマーと、エチレン連鎖部あるいは水素添加されたブタジエン連鎖部と、スチレン、メタクリル酸メチル、酢酸ビニル、塩化ビニルの連鎖部あるいは2種以上の共重合体部を含むブロック共重合体の混合物を、特定の温度範囲で液々相分離を起こす溶媒に均一溶解後、押し出し成形しによってパーコレーション構造をもつゲル状成形を形成し、このゲル状成形体を延伸後、溶媒を除去することを特徴とする微多孔膜の製造方法。【効果】 この様にして得られた微多孔膜は、均質な構造で、突き刺し強度が高いものになる。

請求項（抜粋）：

重量平均分子量1×105 〜3×106 のエチレン系ポリマー60〜99重量部と、重量平均分子量2×104 〜5×105 であり、エチレン連鎖部あるいは水素添加されたブタジエン連鎖部20〜90重量部と、スチレン、メタクリル酸メチル、酢酸ビニル、塩化ビニルの連鎖部あるいは2種以上の共重合体10〜80重量部を含むブロック共重合体1〜40重量部とからなる重合体混合物から構成され、最大孔径と平均孔径の比が1.5以下であるパーコレーション構造由来の均質性の高いフィブリル積層構造を持ち、空孔率が30%以上であり、突き刺し強度が500g以上であることを特徴とする微多孔膜。

IPC (7件)：

C08J 9/28 CES ,  B29C 47/88 ,  C08J 9/36 CES ,  C08L 23/04 LCN ,  B29K 23:00 ,  B29K105:04 ,  B29L 7:00

FI (4件)：

C08J 9/28 CES ,  B29C 47/88 ,  C08J 9/36 CES ,  C08L 23/04 LCN