特許

J-GLOBAL ID：200903044590925147

窒化ホウ素ナノチューブの製造方法

発明者： 板東 義雄 ,  ウェイチン ハン ,  佐藤 忠夫 ,  倉嶋 敬次
出願人/特許権者： 科学技術庁無機材質研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-292984
公開番号（公開出願番号）：特開2000-109306
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：

【要約】【課題】 窒化ホウ素ナノチューブの大量製造方法の提供。【構成】 カーボンナノチューブを原料とし、これにホウ素酸化物および窒素を1200°Cから2100°Cの高温下で反応させて窒化ホウ素ナノチューブを生成させることを特徴とする窒化ホウ素ナノチューブの製造方法。反応に用いるホウ素酸化物は、酸化ホウ素(B2 O3 )、ホウ酸(H3 BO3 )、または高温でホウ素酸化物を生成する物質とし、反応に用いるガスは、窒素またはアンモニアとすることが好ましい。

請求項（抜粋）：

カーボンナノチューブを原料とし、これにホウ素酸化物および窒素を1200°Cから2100°Cの高温下で反応させて窒化ホウ素ナノチューブを生成させることを特徴とする窒化ホウ素ナノチューブの製造方法。