特許
J-GLOBAL ID:200903044593330519
トリートメント装置、トリートメント方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-182240
公開番号(公開出願番号):特開2002-355320
出願日: 2001年06月15日
公開日(公表日): 2002年12月10日
要約:
【要約】【課題】 多機能で操作性が良くかつ安価なトリートメント装置を提供する。【解決手段】 このトリートメント装置は、タッチセンサとしての機能と低周波刺激(パルス発生)機能とを兼用する接触子12,12’をヘッド部1aの先端に設けたレーザ光照射プローブ1を有している。
請求項(抜粋):
皮膚の所望の部位に対してレーザ光の照射を行うレーザ光照射プローブと、前記レーザ光照射プローブの先端に設けられ、当接した部位に作用する低周波電流あるいは直流電流を通電する接触子とを具備したことを特徴とするトリートメント装置。
IPC (5件):
A61N 5/06
, A45D 26/00
, A61B 18/20
, A61N 1/20
, A61N 1/34
FI (5件):
A61N 5/06 E
, A45D 26/00 Z
, A61N 1/20
, A61N 1/34
, A61B 17/36 350
Fターム (18件):
4C026AA02
, 4C026BB08
, 4C026FF22
, 4C026FF58
, 4C026FF59
, 4C026GG08
, 4C026HH24
, 4C053FF07
, 4C053JJ18
, 4C053JJ27
, 4C053JJ31
, 4C082RA01
, 4C082RC09
, 4C082RE22
, 4C082RE58
, 4C082RJ08
, 4C082RJ09
, 4C082RL24
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