特許
J-GLOBAL ID：200903044594764520
ベストフォーカス計測方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-264658
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120116
出願日： 1992年10月02日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 感光基板のフォーカス位置を変化させずに露光を行うだけで投影光学系のベストフォーカス位置を計測する。【構成】 マスク17A上の第1パターン24及び第2パターン25をそれぞれ投影光学系19の光軸に対する主光線の傾斜角が異なる露光光IL1及びIL2で照明して、パターン24及び25の像を面27上の露光面に投影する。パターン24及び25の像の間隔D2を計測し、予め求めてある間隔D2とデフォーカス量ΔFとの関係よりそのデフォーカス量ΔFを求める。
請求項（抜粋）：
転写用のパターンが形成されたマスクを露光光で照明する照明光学系と、前記転写用のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を載置して前記投影光学系の光軸方向に前記感光基板を位置決めする基板ステージとを有する投影露光装置の前記投影光学系の最良結像面の位置を求める方法において、前記マスクとして所定間隔で第1パターン及び第2パターンが形成されたマスクを使用して、前記第1パターン及び第2パターンをそれぞれ主光線の傾斜角が異なる露光光で照明し、前記第1パターン及び第2パターンの像を前記感光基板上に露光する第1工程と、前記第1パターン及び第2パターンの像の間隔を計測する第2工程と、該第2工程で計測された間隔並びにデフォーカス量と前記第1パターン及び第2パターンの像の間隔との関係より、前記第1パターン及び第2パターンの像を露光したときの前記感光基板の位置から前記投影光学系の最良結像面までの間隔及び方向を求める第3工程とを有する事を特徴とするベストフォーカス計測方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 9/00
