特許
J-GLOBAL ID：200903044595397963

物理蒸着室および化学蒸着室を共に処理システムに統合するためのバッファ室および統合方法

発明者：
レイノルズ、グリン、ジェイ

レイノルズ、グリン、ジェイ について

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ヒルマン、ジョセフ、ティ

ヒルマン、ジョセフ、ティ について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について

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トーキョー エレクトロン アリゾナ インコーポレイテッド

トーキョー エレクトロン アリゾナ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-583071
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530858
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：
【要約】マルチ処理室(22)と共通の移送室(26)とを有する処理システムにおいて基板(32)を処理する装置(20)が、基板(32)を受け入れ且つ処理する処理空間(23)を有する処理室(22)と、バッファ空間を画定するバッファ室(24)とを有している。バッファ室(24)は処理室(22)の下方に位置し、処理しようとする基板(32)を受け入れるために、処理システムの移送室(26)とインターフェイス接続するようになっている。処理空間とバッファ空間との間で基板を移動させるために処理室とバッファ室との間に通路(43)が形成され、バッファ空間内の可動的な基板台(30)は、該基板がバッファ空間内に位置する第1位置と基板が処理室(22)の処理空間内に位置する第2位置との間で、通路(43)内を垂直方向に移動することができる。密閉機構(42)は通路を密閉して処理室を隔離することができる。バッファ室にポンプシステム(52)が連結され、処理室(22)から漏れてくる汚染物質をバッファ空間から除去し、バッファ室(24)を介して汚染物質が共通の移送室(26)およびマルチチェンバシステムのその他の処理室へ漏れ出す量を全体的に減少させることができる。
請求項（抜粋）：
多数の処理室と該処理室間で基板を移動させるために用いられる共通の移送室とを有する処理システム内で基板を処理するための装置であって、 内部に基板を受け入れ且つ処理するための処理空間を有する処理室と、 内部にバッファ空間を画定するバッファ室であって、前記処理室の下方に位置し、処理すべき基板を受け入れるために処理システムの移送室とインターフェースで接続するようになっているバッファ室と、 前記処理空間と前記バッファ空間との間で基板を移動させるために前記処理室と前記バッファ室との間に形成された通路と、 前記バッファ空間内に位置し、基板を受け入れるようになっている可動的な基板台であって、基板がバッファ空間内に位置する第1位置と基板が処理室の処理空間内に位置する第2位置との間で前記通路内を垂直に移動するように作動可能な基板台と、 前記通路を塞ぐ密閉機構であって、前記基板台が第1位置にある時に通路を密閉して処理空間をバッファ空間から隔離するように、さらに前記基板台を第2位置へ移動させるために通路を開放するように作動可能な密閉機構と、 処理室から漏れてくる汚染物質をバッファ空間から浄化して、汚染物質がバッファ室を通して共通の移送室および多数の室を有するシステム内の他の処理室中へ漏れ出すことを全体として減少させるための、バッファ室に連結されたポンプシステムとを有する基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/44
FI (3件)：
H01L 21/205 ,  C23C 14/56 G ,  C23C 16/44 F
Fターム (24件)：
4K029AA06 ,  4K029BA03 ,  4K029BA17 ,  4K029DA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030CA04 ,  4K030FA01 ,  4K030GA12 ,  4K030HA01 ,  4K030KA49 ,  4K030LA15 ,  5F045BB08 ,  5F045BB14 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB08 ,  5F045EB09 ,  5F045EB10 ,  5F045EG03 ,  5F045GB07 ,  5F045GB11 ,  5F045HA24
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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