特許

J-GLOBAL ID：200903044603539918

誘電体膜の製造方法及びその製造装置並びに誘電体膜

発明者： 井本 克之
出願人/特許権者： 日立電線株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-374904
公開番号（公開出願番号）：特開2002-016058
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】 比誘電率2.0以下の低比誘電率の誘電体膜を得る。【解決手段】 無機材料と有機材料との超微粉末2-1、2-2を共通あるいは別々のエアロゾル化1-1、1-2からキャリアガスで搬送して細径ノズル7より真空排気中の反応室9内の基板8上に高速噴射すると共に、細径ノズル7内を伝搬させたレーザ光を基板8上に照射して、基板8上に誘電体膜を成膜する。

請求項（抜粋）：

無機材料の超微粉末と有機材料の超微粉末とを共通あるいは別々のエアロゾル化室からキャリアガスで搬送して細径ノズルより真空排気中の反応室内の基板上に高速噴射すると共に、該細径ノズル内を伝搬させたレーザ光を基板上に照射して、該基板上に誘電体膜を成膜することを特徴とする誘電体膜の製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/316 ,  H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/316 B ,  H01L 21/31 A

Fターム (33件)：

5F045AB32 ,  5F045AC17 ,  5F045AE02 ,  5F045AE03 ,  5F045AE05 ,  5F045AE07 ,  5F045AE09 ,  5F045AE11 ,  5F045AE13 ,  5F045AE15 ,  5F045AE17 ,  5F045AE19 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045AF03 ,  5F045BB16 ,  5F045DC63 ,  5F045DP03 ,  5F045EE03 ,  5F045EF02 ,  5F045EK17 ,  5F045EK19 ,  5F045EM10 ,  5F045EN06 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BC04 ,  5F058BC20 ,  5F058BF41 ,  5F058BF80 ,  5F058BG01 ,  5F058BG02 ,  5F058BH17