エッチング終点検出装置およびそれを用いたエッチング終点検出方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-018271
公開番号（公開出願番号）：特開2001-210619
出願日： 2000年01月27日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】半導体基板等のプラズマエッチング用エッチング終点検出精度の改善されたエッチング終点検出装置を提供する。【解決手段】レーザ光発振装置1と、該装置から発射されたレーザ光を反射させ被処理基板20表面に照射されるようにする全反射体2と、反射光9を反射させる全反射体3と、反射光9の中からレーザ光のみを通過させる偏光フィルター4と、該フィルターを通過したレーザ光を分光する分光器5と、分光されたレーザ光を検出する検出器6と、該検出器とプラズマ処理装置10に接続され、検出されたレーザ光の干渉強度の経時変化を分析して被処理基板20のエッチング終点を検出し、プラズマ処理装置10の駆動を停止させる制御装置7とから構成する。

請求項（抜粋）：

第1の膜上に形成された第2の膜、または第1の膜上に形成された第2の膜をマスクに該第1の膜をプラズマ処置装置でエッチングする際に、該第2の膜の表面から光を照射し、前記第1の膜および前記第2の膜の表面から反射した光の干渉強度の変化より前記エッチング処理の終点を検出するエッチング終点検出装置において、レーザ光発振装置と、該レーザ光発振装置から発射されたレーザ光を反射させ前記第2の膜表面に照射されるようにする第1の全反射体と、前記第2の膜表面から反射した反射光を反射させる第2の全反射体と、該第2の全反射体から反射された反射光の経路に設置され、該反射光の中から前記レーザ光のみを通過させる偏光フィルターと、該偏光フィルターの後部に設置され、該偏光フィルターを通過した前記レーザ光を分光する分光器と、該分光器に接続され、分光された前記レーザ光を検出する検出器と、該検出器と前記プラズマ処理装置に接続され、該検出器で検出された前記レーザ光の干渉強度の経時変化を分析して前記第2の膜のエッチング終点を検出し、前記プラズマ処理装置の駆動を停止させる制御装置とから構成されることを特徴とするエッチング終点検出装置。

Fターム (9件)：

5F004AA16 , 5F004CB10 , 5F004CB15 , 5F004DB01 , 5F004DB02 , 5F004DB03 , 5F004DB07 , 5F004EA07 , 5F004EB03

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-145127
特開平4-142735
特開昭62-203335

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