特許

J-GLOBAL ID：200903044619379562

液処理槽および液処理装置

発明者： 滝沢 芳治
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-224209
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062960
出願日： 1991年09月04日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】【目的】ガラス基板,シリコン基板の洗浄、ホトレジストの現像処理、剥離処理、および各種薄膜のエッチング処理などにおいて、その洗浄性能を向上させ、処理時間を短縮する。【構成】基板4を搬送して液処理をおこなう液処理槽において、前記基板4の上面に液を吐出する機能を有する整流板2を設けたことを特徴とする。【効果】基板表面での液流速を向上させることができ、洗浄においては、その洗浄性能を向上させることができる。また、現像,剥離,エッチングにおいては、処理時間を短縮することができる。さらに、処理時間を短縮できることにより、液処理槽内における基板の搬送距離を短くして、この種装置の小形化をはかることができる。

請求項（抜粋）：

基板を搬送して液処理をおこなう液処理槽において、前記基板の上面に液を吐出する機能を有する整流板を設けたことを特徴とする液処理槽。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/10 ,  G03F 7/30 501