特許

J-GLOBAL ID：200903044622859737

X線発生装置

発明者： 近藤 洋行 ,  神高 典明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-259055
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091095
出願日： 1998年09月14日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 強度のX線を長期間に亙って発生させても、ターゲットからの飛散粒子によりX線光学素子の破損や劣化が発生しないLPXを提供する。【解決手段】 液化標的溜まり100中の標的材料101は、配管102を通り、フィードスルーを通過した後、ノズル103より噴出する。ノズル103から噴出されてできた標的材料の液柱122にレーザー光を照射しプラズマを生成してX線を発生させる。標的材料は可変アパーチャー107及びパイプ110を通過した後、容器111内に蓄積される。その後、各バルブを使用した均圧操作を経て、容器113を介して再び液化標的溜まり100に戻されて循環使用される。ノズル103から噴出される標的材料は、連続的に噴出されるようにしてもよいし、間欠的に噴出されるようにしてもよい。

請求項（抜粋）：

真空に排気された容器の中に置かれた標的材料にレーザー光を照射することにより、当該標的材料をプラズマ化し、当該プラズマよりX線を発生させるX線発生装置であって、前記標的材料の形態が液状であり、吐出口より連続的又は間欠的に吐出されることを特徴とするX線発生装置。

IPC (3件)：

H05G 2/00 ,  G21K 5/02 ,  H05H 1/24

FI (3件)：

H05G 1/00 K ,  G21K 5/02 X ,  H05H 1/24

Fターム (5件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB21 ,  4C092AC08 ,  4C092AC09