特許

J-GLOBAL ID：200903044630105466

光磁気記録媒体の製造方法

発明者： 続 山 浩 二 ,  重 松 茂 人 ,  渡 辺 淳
出願人/特許権者： 三井石油化学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-164734
公開番号（公開出願番号）：特開平5-012728
出願日： 1991年07月04日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：

【要約】【構成】 Arガスによるスパッタエッチング処理を施した誘電体膜上に、Co層とPt層とからなる組成変調膜をスパッタリング成膜する。【効果】 上記のようにすることによりノイズレベルが低く、C/N比の高い光磁気記録媒体が得られる。

請求項（抜粋）：

基板上に設けられた誘電体膜に高周波スパッタエッチング処理を施した後、この誘電体膜上にCo層とPt層とからなる組成変調膜を積層することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。