特許
J-GLOBAL ID：200903044636220534
プラズマ発生方法及びその装置並びに被覆粉体の製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
藤本 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-082804
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267697
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 プラズマを安定に発生させうる方法、及びその方法を使用した真空シールや大型化が容易な装置、並びにプラズマCVD方式でコーティング膜を安定に形成でき均質な被覆粉体を効率よく製造できる方法を得ること。【構成】 減圧雰囲気(1)内に開放型包囲域(2)を設けてその内に隔壁(3)を介しガスを供給し、そのガスに高周波を与えて(4)隔壁内でプラズマ化するプラズマ発生方法、及び外部連通のガス供給管(3)とそれを包囲する開口付反応管(2)と反応管に外設の高周波入力部(4)と前記反応管、高周波入力部を収容する減圧容器(1)を有するプラズマ発生装置、並びに前記装置のガス供給管の末端部に粉体(70)を配置し、前記方法でガス供給管内に発生させた原料ガス又は/及び反応ガス(32,80)のプラズマを前記粉体上に供給してコーティング膜を形成する被覆粉体の製造方法。
請求項（抜粋）：
減圧雰囲気内に開放型の包囲域を設け、その包囲域内に隔壁を介してガスを供給し、そのガスに高周波を与えて当該隔壁内でプラズマ化することを特徴とするプラズマの発生方法。
IPC (6件)：
H05H 1/46
, B01J 2/00
, C23C 16/50
, C09K 11/08
, C09K 11/56 CPC
, C09K 11/78 CPB
