特許

J-GLOBAL ID：200903044646804089

回転式基板処理装置の基板回転保持具

発明者： 野々村 正浩 ,  北川 勝
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-294212
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130695
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】 基板の下側の面へのミストの付着を防止するとともに、基板の搬送が容易にできる回転式基板処理装置の基板回転保持具を提供する。【構成】 回転台3が回転駆動されるとこの回転に伴う遠心力によって押し上げ機構7の押し上げ部材7aが、揺動変位し、作動片7a1 が上下移動部材6を上方へ押し上げる。このとき、支持ピン5に位置決め載置されている基板Wと上下移動部材6の上面との間隔が狭くなって、処理液のミストの回り込みが防止される。処理が終了して回転台3が停止すると、これに伴って押し上げ部材7aが所定の位置に戻る。これに伴い上下移動部材6は下降して、回転台3の上面に当接する。このとき、基板Wと上下移動部材6との間隔は広くなり、基板搬送用アームの進入を許容する。

請求項（抜粋）：

回転手段によって回転される回転台と、前記回転台に配設されて基板を回転台表面から所定間隔を隔てて水平に位置決め支持する支持手段と、を備えた回転式基板処理装置の基板回転保持具において、少なくとも基板と同程度の大きさを有し、前記回転台上に上下移動可能に配設される上下移動部材と、前記回転台が停止している間は回転台側の下降位置に、回転台が回転している処理の間は基板に近い上昇位置になるように、前記上下移動部材を上下に駆動する駆動手段と、を備えたことを特徴とする回転式基板処理装置の基板回転保持具。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/306 J