特許
J-GLOBAL ID:200903044651968820

マイクロメカニックな構成要素の製法並びにマイクロメカニックな構成要素

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-124817
公開番号(公開出願番号):特開2000-024965
出願日: 1999年04月30日
公開日(公表日): 2000年01月25日
要約:
【要約】【課題】 規定の幾何学的なデザインパラメータを適当に設定することによりプロセス誤差に関連して特性データのばらつきを僅かに維持もしくは減少させる。【解決手段】 ウェブ及び溝を備えた構造を形成するエッチングプロセスにより、少なくとも1つの幾何学的なデザインパラメータ(bm ,bf ,d)に関連した単数又は複数の電気的又は機械的な機能特性値(S)を有するマイクロメカニックな構成要素、特に容量性の加速度センサを製作する方法において、マイクロメカニックな構成要素の局部領域内の幾何学的なデザインパラメータがプロセスに起因する予め規定された法則性を受けるように、特に機能ブロック形式でほぼ一定であるように、マイクロメカニックな構成要素用のデザインを設計し、これにより、エッチングプロセスの際にマイクロメカニックな構成要素内のデザインパラメータのプロセス誤差(△)がほぼ位置依存性を示さない。
請求項(抜粋):
ウェブ及び溝を備えた構造を形成するエッチングプロセスにより、少なくとも1つの幾何学的なデザインパラメータ(bm ,bf ,d)に関連した単数又は複数の電気的又は機械的な機能特性値(S)を有するマイクロメカニックな構成要素、特に容量性の加速度センサを製作する方法において、マイクロメカニックな構成要素の局部領域内の幾何学的なデザインパラメータ(bm,bf ,d)がプロセスに起因する予め規定された法則性を受けるように、特に機能ブロック形式でほぼ一定であるように、マイクロメカニックな構成要素用のデザインを設計し、これにより、エッチングプロセスの際にマイクロメカニックな構成要素内のデザインパラメータのプロセス誤差(△)がほぼ位置依存性を示さないことを特徴とする、マイクロメカニックな構成要素の製法。
IPC (6件):
B25J 7/00 ,  B62D 57/00 ,  G01P 15/125 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/306 ,  H01L 29/84
FI (7件):
B25J 7/00 ,  G01P 15/125 ,  H01L 29/84 Z ,  B62D 57/00 G ,  B62D 57/00 B ,  H01L 21/302 B ,  H01L 21/306 J
引用特許:
審査官引用 (1件)
引用文献:
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