特許
J-GLOBAL ID：200903044657225307
ダミー回折マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富田 和子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-123907
公開番号（公開出願番号）：特開平6-035172
出願日： 1993年05月26日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【構成】光露光装備を利用してリソグラフィ工程を遂行する際に、主マスクと補助的に用いられるダミー回折層を有するマスクが開示される。このダミー回折層は、変形照明と超解像フィルタを用いた露光装備を用いる場合に、主マスクと補助的に使用し、ウェーハに像が伝達されない微細反復パターンに構成される。【効果】主マスクに入射する(或いは主マスクを通過する)光の性質、即ち、光の入射角(または透過角)および入射角(または透過角)による分布を、露光装備次元でないマスクの次元で改善して、解像力および焦点深度を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
露光装備を利用してリソグラフィ工程を遂行する場合において、主マスクと補助的に用いて、露光装備の光学的像転写特性および感光剤の特性上、ウェーハ上の感光剤に像が解像されないよう微細な反復パターンに構成されたダミー回折層(20,20a)を有するダミー回折マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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