特許
J-GLOBAL ID:200903044685046744

露光装置、露光方法及び電気光学装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-068685
公開番号(公開出願番号):特開2006-251443
出願日: 2005年03月11日
公開日(公表日): 2006年09月21日
要約:
【課題】 露光処理の際の露光光の熱及び光等による液晶マスクの劣化を防止した露光装置、露光方法及び電気光学装置を提供する。【解決手段】 液晶マスク8を用いて被露光基板1上の感光材42に所定パターンを転写する露光方法であって、光源5から出射された所定の波長帯域の露光光を、光分離手段7により、可視光領域の波長帯域を有する第1光44と、可視光領域外の波長帯域を有する第2光46とに分離し、第1光44を液晶マスク8に向けて出射させることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
液晶マスクを用いて被露光基板上の感光材に所定パターンを転写する露光方法であって、 前記光源から出射された所定の波長帯域の露光光を、光分離手段により、可視光領域の波長帯域を有する第1光と、可視光領域外の波長帯域を有する第2光とに分離し、前記第1光を前記液晶マスクに向けて出射させることを特徴とする露光方法。
IPC (3件):
G03F 7/20 ,  G02F 1/13 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F7/20 501 ,  G02F1/13 505 ,  H01L21/30 529
Fターム (12件):
2H088EA32 ,  2H088EA33 ,  2H088EA34 ,  2H088EA39 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H097AA03 ,  2H097BB02 ,  2H097CA06 ,  5F046BA07 ,  5F046CB18 ,  5F046DB02
引用特許:
出願人引用 (1件)

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