特許

J-GLOBAL ID：200903044709891599

ESRFチャンバ冷却システム並びに方法

発明者： ジョンソン、ウェイン・エル
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-563849
公開番号（公開出願番号）：特表2002-522212
出願日： 1999年08月03日
公開日（公表日）： 2002年07月23日
要約：

【要約】【課題】【解決手段】静電的にシールドされた高周波(ESRF)プラズマ源を冷却するための方法とシステムとである。この方法とシステムとは、複数のリブを備え、クーラントを気化し、処理チューブもしくはバイアスシールドに蒸気を噴射させる静電シールドを利用している。蒸気は、リブの下側もしくは隣り合うリブ間で噴射される。このデザインは、誘導コイル間にアークを生じさせる気体を吸収できる液体クーラント浴を使用することを避けている。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理システムを冷却するためのシステムであって、 処理チューブと、 気化されたクーラントを使用して前記処理チューブを冷却するように、処理チューブを囲んだシールドと、 液体クーラントが実質的に完全に気化されることを確実にするように、システム内の液体クーラントの流量を制御するための流量制御装置とを具備するシステム。

IPC (3件)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/50 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

B01J 19/08 E ,  C23C 16/50 ,  H05H 1/46 L

Fターム (13件)：

4G075AA22 ,  4G075BC02 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA03 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB41 ,  4G075EE02 ,  4K030FA01 ,  4K030KA26