特許
J-GLOBAL ID：200903044712813248
偏光光学素子及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-231048
公開番号（公開出願番号）：特開平10-073722
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 耐環境性に優れ、信頼性の高い偏光光学素子を提供し、不安定なエッチング工程を不必要とする。【解決手段】 基板上に所定間隔で形成した金属格子への入射光を偏光方向に応じて透過光と反射光とに分離する偏光光学素子において、金属格子が下地膜上に形成され、下地膜が透明な金属酸化物膜であることを特徴とする。偏光光学素子は、基板上に導電性金属の下地膜を形成する工程と、この上に電子線描画によりレジストパターンを形成する工程と、所定膜厚の金属膜の成膜工程と、リフトオフにより金属膜を選択的に除去し金属格子を形成する工程と、熱処理により下地膜を酸化して透明化するとともに、金属格子の表面に酸化被膜を形成する工程を経ることにより作製される。
請求項（抜粋）：
基板上に所定間隔で形成された金属格子を備え、この金属格子に入射した光を偏光方向に応じて透過光と反射光とに分離する偏光光学素子において、上記金属格子の表面が酸化被膜により覆われていることを特徴とする偏光光学素子。
IPC (4件)：
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
, G11B 7/135
, G11B 11/10 551
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
, G11B 7/135 Z
, G11B 11/10 551 C
