特許

J-GLOBAL ID：200903044723357953

フタロニトリル誘導体およびその製造方法

発明者： 池野 育代
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-136706
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327652
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 一般式(1):【化1】(X1〜X3:水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基)、または一般式(2):【化2】(X1〜X3:上記と同じ、R1〜R2:シアノ基またはCOOR3(R3はアルキル基))で表される新規なフタロニトリル誘導体、およびその製造法を提供する。【解決手段】 一般式(3):【化3】(記号:上記と同じ)の化合物と一般式(4):【化4】(記号:上記と同じ)の化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させて一般式(2)のフタロニトリル誘導体を製造する。このフタロニトリル誘導体を酸触媒の存在下に反応させて一般式(1)のフタロニトリル誘導体を製造する。

請求項（抜粋）：

一般式(1):【化1】(式中、X1〜X3はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基である)で表されるフタロニトリル誘導体(A)。

IPC (6件)：

C07C255/57 ,  B01J 27/06 ,  C07C253/30 ,  C07C255/51 ,  C07C255/54 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C255/57 ,  B01J 27/06 X ,  C07C253/30 ,  C07C255/51 ,  C07C255/54 ,  C07B 61/00 300

Fターム (21件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB03 ,  4H006AB20 ,  4H006AB84 ,  4H006AC24 ,  4H006AC46 ,  4H006BA02 ,  4H006BA32 ,  4H006BA69 ,  4H006BB14 ,  4H006BB20 ,  4H006BB22 ,  4H006BB25 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC34 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CG20 ,  4H039CG40