特許

J-GLOBAL ID：200903044731989829

超高分子量ポリエチレン多孔質シートまたはフイルムの製造方法

発明者： 三田村 聡 ,  西 山 昌 ,  高 橋 達 見
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-238306
公開番号（公開出願番号）：特開平5-001165
出願日： 1991年09月18日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：

【要約】【目的】 高耐摩耗性および高耐薬品性にすぐれた超高分子量ポリエチレン多孔質シートまたはフィルムの製造方法を提供すること。【構成】 粘度平均分子量30万〜200万の超高分子量ポリエチレンに発泡剤を添加してなる原料ポリエチレンをシート状に押出成形し多孔質シートを得ることを特徴とする超高分子量ポリエチレン多孔質シートの製造方法。さらにこのようにして押出成形されたシート状物を2軸延伸することにより、厚さ100μm以下の多孔質フィルムに成形することを特徴とする、超高分子量ポリエチレン多孔質フィルムの製造方法。

請求項（抜粋）：

粘度平均分子量30万〜200万の超高分子量ポリエチレンに発泡剤を添加してなる原料ポリエチレンをシート状に押出成形し多孔質シートを得ることを特徴とする、超高分子量ポリエチレン多孔質シートの製造方法。

IPC (7件)：

C08J 9/00 CES ,  B29C 47/14 ,  B29C 55/12 ,  B29K 23:00 ,  B29K105:04 ,  B29L 7:00 ,  C08L 23:04