特許
J-GLOBAL ID:200903044739229181

露光用マスク基板及びそれを用いる露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平木 祐輔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-267990
公開番号(公開出願番号):特開2001-092110
出願日: 1999年09月22日
公開日(公表日): 2001年04月06日
要約:
【要約】【課題】 機構上の制約を受けることなくマスクに形成したバーコードパターンを正確に読み取る。【解決手段】 露光用マスク基板11のバーコードパターン15上に直接、白色のシートなどの被覆材16を設ける。
請求項(抜粋):
露光パターンと、識別用のバーコードパターンとを備える露光用マスク基板において、前記バーコードパターン上に被覆材を設けたことを特徴とする露光用マスク基板。
IPC (3件):
G03F 1/08 ,  G03F 7/22 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 1/08 R ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 F
Fターム (5件):
2H095BA02 ,  2H095BE04 ,  5F046BA04 ,  5F046DC04 ,  5F046DD03

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