特許
J-GLOBAL ID：200903044743378876
はんだボールバンプ形成工程におけるバリアメタル形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-121780
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306918
出願日： 1996年05月16日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 再配置を行うはんだボールバンプの形成において、リフトオフ残渣不良を低減し、高い信頼のはんだボールバンプ形成工程におけるバリアメタル形成方法を提供する。【課題を解決する手段】 Kr、Xe、Rnから選ばれる少なくとも1種類の不活性ガスまたはこれらの不活性ガスをArに添加した混合ガスをプロセスガスに用いて、バリアメタルをスパッタ成膜するはんだボールバンプ形成工程におけるバリアメタル形成方法。【効果】 大きな質量のイオンが入射し、より激しい衝突によって叩き出されるスパッタ粒子は大きな運動エネルギーを持ち、被処理基板に向かって飛来するスパッタ粒子の指向性も向上し、下地フォトレジスト膜パターンの開口端側壁部へのスパッタ粒子の回り込みも少なく出来、異方性をもったスパッタ成膜が行える。
請求項（抜粋）：
Kr、Xe、Rnから選ばれる少なくとも1種類の不活性ガスをプロセスガスに用いて、バリアメタルをスパッタ成膜することを特徴とするはんだボールバンプ形成工程におけるバリアメタル形成方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/92 604 P
, C23C 14/34 M
, H01L 21/92 604 N
