特許

J-GLOBAL ID：200903044743565510

磁気ディスク基板およびその製造方法

発明者： 後藤 直雪 ,  山口 勝彦
出願人/特許権者： 株式会社オハラ
代理人 (1件)： 坂本 徹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-270647
公開番号（公開出願番号）：特開平8-111024
出願日： 1994年10月07日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：

【要約】【目的】 研磨後の表面粗度が15Å〜50Åの範囲内にあり、しかもこの範囲内で所望の表面粗度を容易に得ることができる結晶化ガラスからなる磁気ディスクを提供する。【構成】 結晶化ガラスの結晶相が二珪酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )およびα-クオーツ(α-SiO2 )であって、該α-クオーツの成長結晶粒子がそれぞれ凝集した複数の粒子からなる球状粒子構造を有しており、該球状粒子は0.3μm〜3.0μmの範囲内の径を有する結晶化ガラスからなり、磁気ディスク基板の研磨してなる表面の粗度(Ra)が15Å〜50Åの範囲内にある磁気ディスク基板である。

請求項（抜粋）：

結晶化ガラスの結晶相が二珪酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )およびα-クオーツ(α-SiO2 )であって、該α-クオーツの成長結晶粒子がそれぞれ凝集した複数の粒子からなる球状粒子構造を有しており、該球状粒子は0.3μm〜3.0μmの範囲内の径を有する結晶化ガラスからなり、磁気ディスク基板の研磨してなる表面の粗度(Ra)が15Å〜50Åの範囲内にあることを特徴とする磁気ディスク基板。

IPC (3件)：

G11B 5/82 ,  C03B 32/02 ,  C03C 10/00