特許
J-GLOBAL ID:200903044743660180
炭酸ジエステルの製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-264755
公開番号(公開出願番号):特開平6-116209
出願日: 1992年10月02日
公開日(公表日): 1994年04月26日
要約:
【要約】 (修正有)【構成】 一酸化炭素と亜硝酸エステルを含有する原料ガス中の水分を除去して、含有する水分を1000ppm以下に制御した原料ガスで、固体触媒存在下、気相接触反応を行い炭酸ジエステルを生成させる。【効果】 含有する水分を1000ppm以下に制御した原料ガスで気相接触反応を行うことによって、使用する触媒の活性が長期にわたって安定に推移し、選択的にかつ高収率で炭酸ジエステルを長期間安定に製造し得る。
請求項(抜粋):
一酸化炭素と亜硝酸エステルを固体触媒下、気相接触反応させることにより、炭酸ジエステルを製造する方法において、一酸化炭素と亜硝酸エステルを含有する原料ガス中の水分を除去して、含有する水分を1000ppm以下に制御した原料ガスで、固体触媒存在下、気相接触反応を行い炭酸ジエステルを生成させることを特徴とする炭酸ジエステルの製造法。
IPC (4件):
C07C 69/96
, B01J 23/89
, C07C 68/00
, C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-141243
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特表昭63-503460
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特開平3-109358
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