特許
J-GLOBAL ID：200903044775398860
微小領域応力測定のためのX線露光方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田北 嵩晴
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-124648
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317484
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】 多結晶材料の微小領域の応力測定のために不連続なX線回折アークが検出可能でかつ角度変化を精度良く検出できる方法及び装置を提供する。【構成】 X線2をスリット6及び前置スクリーン7を介して試料8上の微小領域に入射させ、試料8上の微小領域から反射したX線回折アーク11を、試料8へのX線2の入射角を数回変える毎に一枚の静止したイメージングプレート13に多重露光させる。【効果】 不連続なX線回折アークが検出可能で、かつ角度変化を精度良く読み取れ、多結晶材料の微小領域の応力測定が短時間で可能となる。
請求項（抜粋）：
X線をスリットおよび前置スクリーンを介して試料上の微小領域に入射させ、試料へのX線の入射角を変える毎に、該微小領域から反射したX線回折アークを後置スクリーンを介して、固定したイメージングプレート上の同一の測定領域に多重露光させることを特徴とする微小領域応力測定のためのX線露光方法。
IPC (3件)：
G01L 1/25
, G01L 1/00
, G21K 1/00
