特許

J-GLOBAL ID：200903044784165496

酸性排ガスの処理方法

発明者： 芝崎 靖雄 ,  鈴木 憲司 ,  工藤 芳子 ,  相藤 茂
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  上田石灰製造株式会社 ,  芝崎 靖雄 ,  鈴木 憲司
代理人 (2件)： 工業技術院名古屋工業技術研究所長 (外1名) ,  恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-077551
公開番号（公開出願番号）：特開平11-267446
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：

【要約】【課題】 酸性排ガスを固定化でき、酸性排ガス処理設備を保全できるとともに、塩化水素等の有害物質の生成を抑制することができるうえ、酸性排ガス処理剤を再生し、繰り返し使用を可能とするとともに、二次公害の発生を抑制することができる酸性排ガスの処理方法を提供する。【解決手段】 ゴミの焼却炉等から排出される酸性排ガスの処理は、酸性排ガスを酸性排ガス処理剤に固定化させる固定化処理、及び使用済みの酸性排ガス処理剤を再利用するための再生処理から構成される。固定化処理は、ソーダライト族の化合物を含有する酸性排ガス処理剤を、500〜900°Cで酸性排ガスに接触させて固定化するものである。再生処理は、使用済みの酸性排ガス処理剤を、水酸イオン及び炭酸イオンを生成可能な物質の少なくとも1種を含む水溶液と接触させて再生するものである。

請求項（抜粋）：

ソーダライト族の化合物を含有する酸性排ガス処理剤を、酸性排ガスに接触させて固定化処理した後、水酸イオンを生成可能な物質及び炭酸イオンを生成可能な物質の少なくとも1種を含む水溶液と接触させ、酸性排ガス処理剤を再生処理する酸性排ガスの処理方法。

IPC (3件)：

B01D 53/40 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/68

FI (3件)：

B01D 53/34 118 Z ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 A