特許
J-GLOBAL ID:200903044786448967

光音響ガスセンサ用ガス拡散フィルタの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長門 侃二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-132484
公開番号(公開出願番号):特開2002-328118
出願日: 2001年04月27日
公開日(公表日): 2002年11月15日
要約:
【要約】【課題】 フィルタ特性の安定したガス拡散フィルタを簡易に、しかも制御性良く量産することのできる製造方法を提供する。【解決手段】 光音響ガスセンサのキャビティを形成するSiチップ11におけるガス通流路14の形成部位を陽極酸化してポーラスシリコン層13を形成し、このポーラスシリコン層をガス通流路内に一体に形成したガス拡散フィルタとする。更にポーラスシリコン層を選択的にエッチング除去し、残されたポーラスシリコン層をガス拡散フィルタとする。
請求項(抜粋):
光音響ガスセンサのキャビティを形成するSi基板におけるガス通流路の形成部位を陽極酸化してポーラスシリコン層を形成し、このポーラスシリコン層をガス拡散フィルタとしてなることを特徴とする光音響ガスセンサ用ガス拡散フィルタの製造方法。
IPC (5件):
G01N 29/00 501 ,  G01N 1/22 ,  G01N 21/00 ,  G01N 21/03 ,  G01N 29/02
FI (5件):
G01N 29/00 501 ,  G01N 1/22 J ,  G01N 21/00 A ,  G01N 21/03 B ,  G01N 29/02
Fターム (26件):
2G047AA01 ,  2G047CA04 ,  2G047EA11 ,  2G047GA01 ,  2G047GD00 ,  2G052AA01 ,  2G052AB06 ,  2G052AD22 ,  2G052AD42 ,  2G052EA03 ,  2G052EA14 ,  2G052GA11 ,  2G052JA13 ,  2G057AA01 ,  2G057AB02 ,  2G057AB06 ,  2G057AC03 ,  2G057BA01 ,  2G057BB04 ,  2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC04 ,  2G059DD01 ,  2G059EE16 ,  2G059GG00 ,  2G059KK08

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