特許
J-GLOBAL ID：200903044795908490
単色像の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-197535
公開番号（公開出願番号）：特開平9-104173
出願日： 1996年07月26日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：
【要約】【課題】 低照射量でコントラストの高い単色像を得る方法を提供すること。【解決手段】 (a)支持体表面に、順に、親水性色素受容層と疎水性色素バリヤ層とを含む色素アブレーティブ記録要素をレーザーによって像様照射する際、前記色素受容層と前記色素バリヤ層の少なくとも一方の内部に又はそれらの間にある層の内部に前記要素を照射するために用いられる前記レーザーの特定波長において吸収を示す赤外吸収物質が含まれており、よって前記色素バリヤ層を像様加熱しこれをアブレートする工程、(b)アブレートされた前記色素バリヤ層の物質を除去する工程、(c)前記像様照射後の要素にインク水溶液を接触させる工程、及び(d)前記要素を乾燥して前記アブレーティブ記録要素において単色像を得る工程を含む単色像の形成方法。
請求項（抜粋）：
(a)支持体表面に、順に、親水性色素受容層と疎水性色素バリヤ層とを含む色素アブレーティブ記録要素をレーザーによって像様照射する際、前記色素受容層と前記色素バリヤ層の少なくとも一方の内部に又はそれらの間にある層の内部に前記要素を照射するために用いられる前記レーザーの特定波長において吸収を示す赤外吸収物質が含まれており、よって前記色素バリヤ層を像様加熱しこれをアブレートする工程、(b)アブレートされた前記色素バリヤ層の物質を除去する工程、(c)前記像様照射後の要素にインク水溶液を接触させる工程、及び(d)前記要素を乾燥して前記アブレーティブ記録要素において単色像を得る工程を含む単色像の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41M 5/26 S
, B41J 3/20 109 A
